Основная специализация компании – производство олигокарбонатметакрилата (ОКМ-2) и УФ-отверждаемых клеев, фоторезистивных композиций для DUV фотолитографии и электронной литографии подтверждено Патент RU2692678C1: Фоторезистивная композиция высокочувствительного позитивного электронорезиста.
Так же мы изучаем возможности применения технологий искусственного интеллекта в нашем производстве и работаем над программно-аппаратными решениями в этой области.
В компании работает большой штат специалистов химиков в современных «чистых комнатах», сертифицированных по стандарту ISO7. В том числе наши специалисты имеют степени кандидатов химических наук и участвовали в проектах по изучению проблем высокочистой химии ULSI.
Производственная система сертифицирована по ISO 9001-2013 ГОСТ РВ 0015 ISO 29001:2010 ISO/IEC (ISO IEC 14443) и проходит ежегодную аттестацию и валидацию.
Разработка технологии получения и освоение производства фоторезистов и покрытий антиотражающих (ПА) для использования в процессе фотолитографии с длинной волны актиничного лазерного излучения 248-193нм нм (KrF)(EUV_x-ray)